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4 pouces GaN substrat autonome

Informations spécifiques
Les substrats autostables GaN, également connus sous le nom de wafers en nitrure de gallium, offrent une excellente conductivité thermique et une qualité cristalline élevée, ce qui les rend adaptés à la fabrication de dispositifs électroniques et optoélectroniques de haute puissance. Leur stabilité mécanique et leur large bande passante permettent des performances supérieures dans les applications à haute fréquence et à haute puissance, y compris les systèmes de communication par micro-ondes et les systèmes radar. Avec des coûts en baisse et des techniques de fabrication avancées, les substrats autonomes GaN offrent des perspectives prometteuses pour une application généralisée dans divers domaines tels que la communication 5G, la communication optique et l’énergie.
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  • spécification
  • propriétés
  • Article:Gaufrette de GaN autonome (2~4inch)
    diamètre50,8 ± 0,3 mm76,2 ± 0,3 mm100.0±0.3mm
    epaisseur400±30μm450±30μm450±30μm
    Orientation de Surface(0001) ± 0.2°Ga face
    Coupée en morceaux0.5° c plan hors angle vers l’axe m
    0,0 ° c plan hors angle vers l’axe a
    Orientation plate primaireM-plan (10-10) ± 2,0 ˚
    Longueur plate primaire16,0 ± 1,0 mm2,0 ± 1,0 mm32,0 ± 1,5 mm
    Orientation plate secondaireGa face vers le haut: 90.0˚ CW de primaire ± 5.0˚
    Longueur plate secondaire8,0 ± 1,0 mm11,0 ± 1,0 mm18,0 ± 1,5 mm
    Finition de Surface avant≤ 0,3 nm(10μm ningu. de 10μm)
    Finition de Surface arrièrePoli; Gravé à l’eau
    Marque LaserFace arrière :N-Face
    Le TTV≤15μm≤25μm≤30μm
    arc≤20μm≤30μm≤40μm
    La chaîne≤30μm≤45μm≤60μm
    Exclusion de bord≤5 millimètres

    Dopage/résistivité

    Semi-isolant (carbone): résistivité ≥1E8 ohm-cm

    Type n (silicium): résistivité ≤ 0,05 ohm-cm

    UID(non dopé): résistivité ≤ 0,2 ohm-cm


    Spécifications de personnalisation:

    * diverses tailles et formes telles que 10*10mm.

    * diverses épaisseurs :0.1~1.0mm

    * diverses rugosités de surface telles que le tranchage, le rodage.


  • Le nitrure de Gallium (GaN) voir aussi: voir aussi: est un de azote et de Gallium, un semi-conducteur avec une bande passante directe de III et V, et à un large de avaliou avaliou de 3,4 de volt. Nitrure de Gallium (GaN) A fait Les avantages de De la perte de puissance et de la charge de dissipation de chaleur. Il a de grandes perspectives dans l’application de l’opto-sp, des lasers, des dispositifs -sp haute -sp et -sp haute puissance et des dispositifs -sp technologies -sp haute -sp.


    Structure cristallinehexagonale
    Constante de grille (nm)D = 3.1818emon C = 5.1865emon
    ⊑ (g/cm)3)6,15-6 -6 -6 -6 -6,15
    Point de fusion (℃)2500
    Mohs (Mohs)9,5 ans et plus
    Constante di[unused_word0006]8,9 % de la population active
    De bande (eV)3,45 lires 3,45 lires
    Champ emon de panne (MV/cm)4,9 et 4,9
    Conductior de chaleur (W/cm.K)2.3. -
    Expansion thermique A = 5,6 *10-6/k c= 3,2 *10-6/k


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